二手 OAI 306 #9124212 待售

OAI-OAI 306是一种全自动、计算机控制的曝光设备，专为金属和介电膜的沉积而设计。它可以用来制造大面积、均匀和有图桉的薄膜。这种先进的沉积技术配有气体/真空溷合阀、射频溅射阴极、直流溅射阴极和基板支架。该阀用于精确控制气体供应，并用于将反应物气体引入室内，从而使分子精确雾化。溅射阴极是离子喷洒基板表面的强大来源，使得沉积成为可能。温度由内置热电偶和提供精确设置的温度控制器调节。OAI-306可以在单个独立配置或多室真空集群系统中安装和操作。它与双强等离子体源或单一源兼容，允许更好的过程参数控制。射频和直流电源可分别从0.1至100毫安和350至3000伏进行调节,从而可以精确控制沉积速率和质量。OAI-OAI 306提供对薄膜压力和温度的精确控制，使其适用于氧化和氮化，以及制造持久可靠的氧化物屏障。该单元包括提供完整自动化和监控过程的软件。软件控制机电元件，借助图形用户界面（GUI）监控真空机压力、溅射率、气体浓度、基板温度、加热器电流等。OAI-306在多种应用中都能很好地应用，适用于先进的微电子、硬质涂层、耐腐蚀涂层、隔热涂层、装饰饰面等。这一工具具有成本效益、节能和环保。