二手 ORC EXP-2050 #9361769 待售

ORC EXP-2050是为高性能光刻应用而设计的曝光设备。它具有模块化设计，可用于各种曝光，包括利用各种紫外线、电子束和X射线源的曝光。该系统提供了广泛的优化功能，包括光学对准、探测器定位和腔室温度控制。该装置采用高质量的成像传感器，具有较高的动态范围和优异的成像性能。成像传感器还具有检测较小特征的能力，从而可以提高聚焦深度。此外，它还包括一个专利的腔室设计，这有助于控制所有组件的温度，同时确保统一的性能和高可靠性。EXP-2050利用获得专利的智能前馈控制机器,帮助其检测和调整曝光参数和曝光时间的最小变化。此外，它还包括一系列的控制和分析工具，使人们能够详细了解光刻工艺。ORC EXP-2050最独特的特点之一就是它的可变掩码设计。通过使用3维可变形蒙版,此工具使您能够灵活地根据变化的工艺参数调整特征。这样可以获得更好的掩模性能和改进的光刻效果。使用集成软件自动完成曝光过程。通过使用图形用户界面（GUI）,用户可以从单个界面设置、监视和控制曝光过程。此外，它还提供了一个对洁净室友好的设计，使它能够在一系列不同的密闭空间中使用，即使在处理危险化学品时也是如此。EXP-2050易于与现有的光刻设备集成,包括步进器和对齐器。这使得它成为任何现有设置的绝佳补充,并允许用户从自己的资产中获得更高的分辨率和更高的准确性。综合模型也满足了测试要求，因为先进的计量功能使从所有暴露中获取可靠数据成为可能。总体而言，ORC EXP-2050是一种坚固灵活的曝光设备，旨在提供高性能，以实现精确和可重复的光刻结果。EXP-2050具有广泛的优化控制、可变掩码设计和自动化软件,是满足任何高端光刻需求的理想解决方桉。