二手 ORC HMW 201B 5K #293636467 待售

ORC HMW 201B 5K是为高分辨率光刻掩模书写应用而设计的曝光设备。该系统具有5千瓦的激光功率，能够产生宽度和高度为5微米的线路和空间。它在200毫米掩模上提供全场曝光,可用于生产晶圆制造。HMW 201B 5K单元的主要部件包括激光、空间滤波器、光束整形光学器件、扫描镜、掩模级组件和控制器。该激光器是一种5kW、Q开关的Nd： YVO4固态二极管泵浦激光器，可在可见范围内发射，用于光刻和掩模书写。激光可以产生精确、高分辨率的线和空间，宽度和高度可达5微米。空间滤光机限制了激光束的发散，有利于改善光束的平行性，从而能够准确地写出线条和空间。光束整形光学器件包括一个10倍望远镜透镜、两个镜面偏转器和两个4倍望远镜。扫描镜引导激光束单次覆盖整个200毫米宽的掩模，掩模舞台设计为将掩模固定到位，同步移动，便于全场曝光。控制器设计用于为工具的各个组件提供精确控制和输入命令。它具有易于使用的界面,并为模式和图像数据输入提供了多种功能。这样可以确保在整个200毫米蒙版上保持一致和可靠的均匀曝光。ORC HMW 201B 5K资产具有很高的可靠性,可抵抗振动、粉尘和污染物.它低调的设计和小占地面积意味着它可以很容易地集成到各种环境中。它还为增强用户舒适度而设计,其工作流程简单直观,几乎不需要培训。该模型功能广泛，分辨率高，控制准确，非常适合高精度光刻和掩模书写应用。除创新的新应用外，它还被用于生产多种类型的半导体器件。