二手 ORC HMW 201B 5K #9384302 待售

ORC HMW 201B 5K是一种高性能、高精度的曝光设备,旨在为曝光和光刻工艺提供优异的效果。该系统配有高倍率物镜，可提供中等数值的光圈和较大的视野。这使得它适用于种类繁多的曝光应用。该单元具有5K全场工作区域,能够精确再现具有7nm最小特征大小的图桉图像。这导致精确的微观特征和高对比度模式的高度精确放置。该机器还设计用于适应大视野的快速移动，允许快速曝光和数据采集。该工具配备了专有的自动对准和跟踪资产，以确保准确性和可重复性。该模型能够检测到细微的公差变化，然后可以相应地调整其参数。这大大降低了标线定位误差，最大限度地提高了图像质量。此外，该设备还有一个内置的质量控制系统，可监测成像过程，并能提醒操作员任何不满意的结果。该设备还被设计为高度可配置。它能够提供可调节的镜头参数、照明源的多种选项，并能在曝光时间和功率水平上提供灵活性。这使得它适用于广泛的应用，包括光掩模光刻、纳米印迹光刻以及多种其他应用。最后，机器设计有一个强大的，用户友好的界面。操作员可以轻松地对工具进行编程,以获得所需的曝光结果。自动化选项也可用,可以大大缩短曝光时间,同时确保可重复成像结果。综上所述，HMW 201B 5K是一种高性能、高精度的曝光资产，旨在获得优异的效果。凭借其可调透镜和多重照明选项，可用于多种光刻和成像应用。自动对准跟踪和内置质量控制模型可确保准确性和可重复性。最后,该设备具有强大的用户友好界面,支持自动化以实现更快的曝光和可靠的结果。