二手 ORC HMW 680G-20EC #293636469 待售

ORC HMW 680G-20EC是一种精密曝光设备,用于高分辨率、光刻掩模和其他成像格式的精确可靠曝光。曝光系统由一个填充680W氙气的反射器、一个20元石英冷凝器和一个光栅扫描头组成。该装置能够产生高达0.3-0.5毫秒的曝光时间，最大分辨率为3.5微米，非常适合高质量的光刻面罩生产。该机还具有防光过度曝光保护工具，以及由可编程命令资产自行调节和控制的高输出功率。该模型的工作原理是使用680W的氙填充反射器、一个20元的石英冷凝器和光栅扫描头来产生曝光时间。反射器由高抛光铝制成，功率因数（PF）为0.98，比市面上的其他反射器效率高达20%。石英冷凝器有20个元件，旨在为高分辨率成像提供最佳照明，最小化光衰减，并在曝光头产生均匀的光分布。然后,光栅扫描头采用预定的像素图样,并将其栅格化在基板上。该设备还具有可自行调节的高输出功率，可以使用手动或自动控制系统进行调节。手动控制单元允许操作员手动调整曝光时间和功率输出，而自动化机器则可以编程为自动调整设置。此外,该工具还具有自动调平功能,允许操作员在需要时增加曝光时间。除了性能外,HMW 680G-20EC还提供无与伦比的稳定性、长期可重复性和鲁棒性,使其成为生产环境的理想选择。所有组件的设计都能承受极端温度和其他环境变化，即使在最恶劣的条件下也能提供可靠的操作。该资产旨在产生准确和一致的风险，即使经过多年的使用也能产生可重复和可预测的结果。总体而言,ORC HMW 680G-20EC是一种先进、可靠且功能丰富的曝光模型,针对高分辨率光刻掩模生产和其他成像应用进行了优化。它具有高的输出功率、不耦合的曝光速度以及多年的可靠性能,是依赖精度和可重复结果的生产环境的理想选择。