二手 ORC HMW680GW #9255676 待售

製造商
ORC
模型
HMW680GW
ID: 9255676
优质的: 1989
Exposure system Exposure area: 610 x 820 mm Connection value: 3 x 380 V Power: 7 kW 1989 vintage.
ORC HMW680GW是一种行之有效的行业标准曝光设备,它将电子束技术用于光掩模和半导体行业的各种应用。该系统能够提供精确的曝光控制和高分辨率的结果,具有良好的产量,可靠性和可重复性。曝光单元使用双偏转器机器操作,以光栅和矢量模式提供精确电子束扫描。电子束具有广泛的动态范围,在广泛的工作范围内具有线性输出,在长周期内具有极好的可重复性。高压电源稳定线性,刀具加速电压可编程。内置电源和资产的快速扫描速率使其成为高吞吐量应用程序的理想选择。ORC HMW 680GW具有直观的用户界面,并为用户提供易于遵循的图形界面。模型性能可以通过一套全面的指标和安全特征进行监测和管理,这些指标和特征可以设置、定制和监测。设备的分层存储系统(HSS)和开放平台可灵活访问各种类型的掩码数据,从而允许用户完全控制数据格式和存储选项。开放平台以各种格式为一系列不同类型的数据提供支持,包括点、矢量和区域暴露数据。该单元具有实时模型数据库,可以进行访问和分析,以确保机器性能的最高水平。该工具的集成晶圆处理资产包括晶圆盒式磁带,以及为最大晶圆完整性和精度而设计的晶圆级。该模型具有先进的工艺-气体模块,以确保高效和受控的精确晶圆工艺条件。该设备提供了一个选项,有一个板载机械臂模块,允许简单的蒙版应用到晶圆。HMW680GW是光掩模和半导体行业各种曝光要求的理想选择。此曝光系统具有先进的用户友好功能,是实现卓越产量、质量和生产力的最可靠、最高效的解决方桉之一。
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