二手 ORC HMW680GW #9384301 待售

ORC HMW680GW曝光设备是最先进的最先进的工具之一，可用于光掩模制造商。它使用高度专业化的准分子激光技术在光掩模上创建极细的图桉。它体积小巧、生产率高、效果优异,是光掩模制造商和研究实验室的宝贵工具。该系统结合了先进的准分子激光源和高精度光学掩模级。激光光源利用氙气，曝光波长典型为248nm；此外，脉冲重复率由5kHz调整为25kHz。可通过用户调节来改变50 nm至1um以上的曝光深度。曝光装置还配备了先进的自动对焦机，利用激光干涉测量来快速准确地将激光束聚焦到光掩体上。自动对焦工具配有xy级定位的高精度级，以进一步确保蒙版曝光的准确性和稳定性。除了出色的激光驱动曝光能力外，ORC HMW 680GW还通过光刻和sizaigefuro支持光敏材料的曝光。这让用户可以利用一系列常见的光源，如最新的弧光灯，以及深层紫外线LED等专用光源。HMW680GW暴露资产对暴露参数具有高度的控制和准确性。这允许用户根据自己的需求微调曝光参数，即使在使用极薄的晶片等具有挑战性的基板时也是如此。此外,该模型还包括各种自动化功能,可实现更高效、更快和方便的工作流程。总体而言，HMW 680GW曝光设备为光掩模制造商和研究实验室提供了一个强大的工具，可以在光掩模上产生高质量的图样。它具有自动对焦和用户可调节的激光脉冲速率等多用途性能和高端特性，能够高效生产具有极精细图桉的光掩模。该系统非常适合研究和开发以及生产实验室。