二手 OVAC OV29 #82531 待售

OVAC OV29是一种用于半导体工业生产高性能IC的曝光设备。用于在半导体器件制造中将高精度工艺材料的均匀层沉积到晶片上。OV29能使均匀层沉积以较高的沉积速率发生,并且对包括介电、金属、聚合物和氧化物在内的一系列材料具有极好的阶梯覆盖。OVAC OV29由集成真空室、双离子源工艺室和加热室组成。集成真空室有助于在整个沉积过程中保持高水平的过程控制和良好的真空性能。该工艺中使用的气体可通过两个工艺室之一泵送到源侧或基侧。这两个腔室都具有较高的源到基底距离能力，有助于提供出色的阶梯覆盖。此外，该系统所含的加热室适用于较厚和较密层的沉积，如高k电介质。OV29通过使用改进的视线技术提供了出色的附着力和均匀性。这提供了基板的完全覆盖，无论晶圆几何，从而确保没有间隙。该单元还具有一个可用于同时精确沉积多层的多工艺室。这确保了最复杂的设备能够以高效和经济高效的方式生产。OVAC OV29与标准晶片和粘合晶片兼容，还能够处理各种其他基材，包括硅、砷化的和玻璃。此外，机器的均匀层沉积使得能够使用先进的计量学方法，例如原子力显微镜（AFM）来监视每一个製程步骤的进度。它提供实时反馈,可用于根据需要调整流程参数。OV29是为最具挑战性的应用而设计的通用可靠的过程解决方桉。结合其卓越的性能、均匀的层沉积和多工艺能力，该工具是成功生产高性能IC的理想选择。