二手 QUINTEL Q4000-6 #9258038 待售

QUINTEL Q4000-6是为半导体行业设计的最先进的曝光设备。该系统具有多种特点，使其成为先进光刻应用的理想选择。首先,Q4000-6是为大批量生产而构建的。它提供每小时12个晶圆的吞吐量,比对速度为每秒8个驱动器。这个单元还能够以25微米的分辨率进行简单到中级的应用。QUINTEL Q4000-6同伴强壮，场尺寸为200 mm x 200 mm，模具尺寸为6英寸，场尺寸为12英寸，模具尺寸为35mm x 35mm。这台机器具有很高的定位精度,即使尺寸很小,也会产生低于0.3%的结转误差,以确保结果一致。在曝光精度方面，此工具可以在0.5微米内保持对准精度的同时实现线宽减小至2微米。它还具备暴露小特征和分离光刻工艺的能力，允许高度定制的生产环境。Q4000-6集成了高效且易于使用的软件,能够存储和编辑整个设备库,并为曝光过程生成复杂的分层。该资产还具有用于程序库的大容量,从而实现了更复杂的流程和更高的生产输出。为了保证质量，QUINTEL Q4000-6利用一系列内置传感器来确保可重复的模式精度。这些传感器甚至可以检测最微小的模式异常，并提供实时反馈，在整个生产周期中保持质量保证。总而言之,Q4000-6是一种功能强大且高效的曝光模型,可为大容量生产环境提供卓越的性能。它具有快速的吞吐量和高精度,提供了无与伦比的灵活性和质量控制级别。