二手 SEIWA PA-920V-INL-5 #9293008 待售

SEIWA PA-920V-INL-5是一种用于光掩模生产的高度先进和先进的曝光设备。该系统旨在生产具有0.5 µm或更小特性的口罩。它采用全尺寸液晶触摸屏和10.4英寸显示屏,便于控制设备的功能。这台用户友好的机器提供了各种曝光选项和配方，可以量身定制以满足客户的需求。PA-920V-INL-5具有蒸发膜沉积源，使铬板与优化的抗蚀层层合。这提供了更好的分辨率和更高的衍射能，从而导致更好的质量成像的光掩模。沉积源还能覆盖整个板块区域，不需要使用手动掩蔽。该工具配有电子绘图仪和LED曝光源。绘图仪设计用于在曝光前在铬板上精确绘制图样并创建图样。LED曝光源利用最新的先进技术提供可靠和均匀的照明。这允许对曝光前创建的阵列进行精确成像。SEIWA PA-920V-INL-5的一个独特特点是其精密的真空资产。真空不仅可以在基板上获得更好的均匀抗蚀层厚度，而且还可以改进对裸露板的目镜观察。利用真空模型，PA-920V-INL-5具有自动检测真空压力水平的能力，从而改善了光掩模的成形。SEIWA PA-920V-INL-5可与各种接触面罩和磨盘配合使用，提供理想的抛光条件。这允许根据客户要求均匀抛光光掩模。该设备还可与多处理室和酸蚀刻单元配合使用，以进一步精确控制。利用PA-920V-INL-5曝光系统中所采用的最新技术,可以一致有效地生产出小至0.5 µm的光掩模。该单元设计为易于使用和最大的灵活性都在一个包。它集成了复杂的真空和优化过程,以经济实惠的价格提供卓越的光掩模生产质量。