二手 SEIWA PA-920V-INL-6 #9293009 待售

SEIWA PA-920V-INL-6 Exposure Equipment是一种高容量和多用途的工具,旨在为各种应用提供最高质量的暴露。它能够容纳系统中最多六张基板，包括玻璃、薄膜、聚酰亚胺和柔性印刷电路。此功能可确保最大容量和灵活性,从而能够精确暴露困难和复杂的微电路设计。该设备采用专有的光学对准机进行设计,以确保在高速打印过程中一成不变地准确曝光。Exposure Tool配备了高级便利功能,如具有偏移功能的液晶显示器。这样可以通过同时监控显示器上的图像来实现极其精确的定位。此外，曝光资产还有一个可编程的曝光周期计数器，允许使用可编程的手动和自动设置。PA-920V-INL-6曝光模型还设计了高效的冷却和干燥系统,以最大程度地减少最佳曝光所需的时间。内置冷却设备旨在将基板保持在最佳范围内,以达到最大效果。干燥系统的集成真空单元（IVS）在基板上输送平滑、均匀的气流,以确保适当干燥,而无需人工干预。本机采用全自动控制,操作快速、准确.先进的光刻和加载/重载技术使高精度操作的任务更快、更简单。该工具还设计为易于维护,并具有一系列易于执行的维护步骤。快速可变模块允许在需要时快速更换组件,从而最大程度地减少了停机时间并保持了可靠的高输出。Exposure Asset还配备了广泛的高级安全功能,如实时操作员监控和全线保护。安全传感器旨在提醒操作员注意任何潜在风险，曝光模型完全符合所有主要的全球标准。SEIWA PA-920V-INL-6 Exposure Equipment是生产最高质量的光刻技术的杰出工具,具有一致和精确的图像质量,并且对各种材料具有前所未有的容量。它是任何需要精确曝光和高容量输出的微电路设计应用所必需的。