二手 SEIWA PA-920V-INL-7 #9293010 待售

SEIWA PA-920V-INL-7是为半导体制造过程中的光掩模生产而设计的曝光设备。它是一个步进扫描仪平台，具有6英寸方形的光掩模级和双11英寸的Exactrail表，允许大的光掩模尺寸和高吞吐量。该系统可提供高达0.25 μ m的分辨率,并利用高强度、分割场、四存储管、深紫外线投影光学单元进行曝光。该机集成了高精度运动控制工具，实现了更高的定位精度和优化的无抽动。通过在8英寸图像字段中进行长达2.3秒的扫描,该资产旨在降低大型光掩模生产的复杂性。其先进的曝光算法选项使它能够处理甚至最复杂的形状。该模型可设置为多种用途，如短曝光时间、激光直接写入和溷合模式曝光。它的模块化设计允许在不同的曝光应用程序之间快速转换,并能够轻松升级到新的流程需求。此外，这些设备即使持续使用也能长寿。PA-920V-INL-7具有自动聚焦、特定于应用程序的对齐和自动曝光优化等高级功能。自动对焦结合了对焦光学形状识别和对焦测量，具有卓越的准确性和可重复性。另一方面,对齐模块会根据其固有的设计特征自动对齐光掩模。自动曝光模块允许系统为正在生产的光掩模的每一层优化曝光参数。该单位提供全面的暴露后检查和分析能力。它提供了三维晶片重建和热点检测机器，以确保产量卓越。它还提供了广泛的数据记录功能,允许操作员在生产运行期间跟踪关键参数。该工具可以连接到多个外围设备，如额外的检查摄像头和计量配件，以进一步确保质量控制。SEIWA PA-920V-INL-7是光掩模生产的一种高度可靠和具有成本效益的曝光资产。凭借其先进的特性和功能,此模型消除了与光掩模生产相关的麻烦和时间。它允许高吞吐量、卓越的精度和可重复的性能，使其成为现代半导体制造的理想解决方桉。