二手 ULTRA OPTICS MR3 #9305723 待售

ULTRA OPTICS MR3是ULTRA OPTICS, Inc.为半导体生产中使用的光刻工艺设计的曝光设备。它利用极紫外线（EUV）的短波长投射模式到硅片上。该系统可以曝光不同尺寸和分辨率的模式，并可用于创建多种复杂的半导体器件。曝光单元由三个元素组成：源、投影光学元件和掩模。该源产生EUV辐射，它被投影光学器件聚焦成一个紧密、狭义的光束。保持要暴露的阵列的蒙版放置在梁的路径中。MR3使用的光源是由相对论-电子束激光器产生的EUV激光器。这种激光发射的光波长为13.5nm，比可见光谱短得多，光束直径为0.6mm。这个波长足够短，可以穿透硅晶片的高电阻率层，让图样被蚀刻到基板上。作为EUV光束透镜的投影光学器件设计用于高分辨率投影。它们由一系列磁光和多层涂层的反射镜和透镜组成，这些反射镜和透镜将光束聚焦到晶圆上。可以调整光学器件的焦距以改变投影图桉的大小。遮罩由一系列反射金属图桉组成，是机器中的关键部件。它被放置在光束的路径中，使得模式被投射到晶圆上。模式本身，可能是简单的形状或更复杂的设计，是根据期望的结果选择的。这三个组件-源、光学元件和掩模-共同构成了ULTRA OPTICS MR3曝光工具。作为市场上最先进的EUV曝光系统之一，它能够生产速度和细节都非常出色的复杂半导体器件。该资产可用于创建用于制造半导体集成电路的各种晶体管、逻辑门和其他组件。