二手 USHIO HB-25102AF-A #9167718 待售

USHIO HB-25102AF-A是一种先进的曝光设备,旨在提供精确的曝光控制。它设计方便地处理不同种类的基板，并以先进的光学器件和可更换的狭缝叶片提供高速曝光。该系统具有高度精确的曝光控制器，可确保在广泛的波长范围内保持一致的曝光强度。它的控制范围为0.01-767 mJ/cm^ 2，允许各种各样的曝光设置。此外，HB-25102AF-A还配有一个高精度的温度控制装置，能够精确的温度控制和稳定。USHIO HB-25102AF-A配备了用于精确定位和曝光均匀性的高级狭缝刀片。这个狭缝刀片可以用一个微小的旋钮调整到曝光所需的确切位置。狭缝刀片的精确定位确保机器的曝光范围对于每个晶片保持均匀。该工具还具有晶圆夹紧资产,便于精确的样品加载。此外,HB-25102AF-A还配备了易于使用的全尺寸液晶触摸屏和基于Windows的软件界面,可轻松控制曝光。界面允许用户设置基板参数，实时监控曝光结果。USHIO HB-25102AF-A还配备了一个轨迹球,可以方便地通过用户界面进行导航。HB-25102AF-A内置LED,可提供明亮的背景照明,以便在曝光过程中轻松查看样品。LED指示灯可调节到样品曝光的最佳水平。该模型还带有一个内置的空气净化设备，可防止样品在暴露过程中起雾。总体而言，USHIO HB-25102AF-A是一种高精度、高速曝光系统，旨在提供精确准确的曝光控制。适用于不同类型的基板，提供高精度的样品负荷和曝光控制。凭借先进的光学器件和可更换的狭缝叶片，该装置能够在广泛的波长范围内曝光。该机的液晶触摸屏和基于Windows的软件使曝光控制和监控变得容易，其内置的LED和空气净化工具使样品不起雾，并提供最佳照明。