二手 USHIO PE-250D3NP #9128108 待售

USHIO PE-250D3NP是一种高品质的曝光设备，设计用于整个半导体行业使用的光刻工艺。它具有375瓦超高压金属卤化物脉冲电弧灯,可实现最高水平的照明,从而实现严格的过程控制和低循环时间。它还为最复杂的工艺提供了卓越的阵列精度,其稳定且可重复的性能使其非常适合用于晶圆和标线曝光。该系统由几个主要部件组成，一个光源、一个投影透镜、一个标线阶段和一个曝光阶段。光源由电源和灯组成，发出高强度的光。投影透镜是一种高精度光学透镜，能够将详细的图像投射到晶片或标线材料上。标线级固定基板，并在透镜下方移动遮罩图桉，以便投影到基板上。曝光阶段由电脑控制，以必要的模式移动晶片材料，也聚焦镜头以获得清晰的图像。PE-250D3NP能够达到0.250的数值孔径（NA）,放大倍数范围从5 x到40 x。在1.4x1.9mm的视野下，投影影像尺寸范围为0.25um至2.0um，适合多种工艺。此外,4x3格式允许在同一个视图域内使用三个单独的曝光区域,从而实现更快的流程周期和更高的源输出效率。该设备用户友好且配置性强。可以安装在机器上或远程操作的控制面板可用于控制所有主要操作。此外，内置诊断程序允许持续监测进度，并在参数发生变化时发出警报。总体而言,USHIO PE-250D3NP是一种理想的曝光工具,适用于需要在光刻过程中获得最高精度和精确度的应用程序,并且在出现性能挑战时特别有用。PE-250D3NP具有优越的图样精度、稳定且可重复的性能以及快速的循环时间，是先进光刻应用的绝佳选择。