二手 USHIO PE-250DMV2 #293629206 待售

製造商
USHIO
模型
PE-250DMV2
ID: 293629206
Exposure system.
USHIO PE-250DMV2是用于快速热处理(RTP)和退火应用的高级曝光设备。该系统设计为在基板和晶片的温度控制方面具有很高的可靠性和准确性。PE-250DMV2具有高精度激光热传感器、0.1°C的高热精度和每转动晶圆0.3秒的优化扫描速度。该设备具有更快的加热能力,有助于提高生产效率,同时确保产品质量一致。USHIO PE-250DMV2配备了宽范围的电源,使其能够处理各种直径可达4英寸的晶圆。它还设计用于灵活的温度控制,允许高度优化的热流和基板温度控制。另一个显着的特点是改进了样品室设计,提高了温度分布的均匀性。这对于创建无污染、应用均匀且性能可重复的曲面至关重要。此外,在不同的操作条件下,腔室的设计也可以提高机器的稳定性和精度。此外,由于机载快速加热配置和快速冷却,该工具的处理时间很短。它还提高了整个资产的使用寿命。PE-250DMV2的控制功能具有高度直观和高度可定制的特点,能够快速轻松地操作。它有一系列的控制参数,使其易于配置和调整温度、功率水平和扫描速率。此外,该模型能够一次控制多个晶片,并保持多个工作区设置。USHIO PE-250DMV2是为优化工艺性能和提高产量而设计的。其内置的安全特性、符合安全标准以及用户友好的设计进一步使其成为RTP和退火应用的理想选择。
还没有评论