二手 USHIO PE-250R2-SE #9280628 待售

USHIO PE-250R2-SE是一种曝光设备，旨在高效、准确地曝光半导体行业的光掩模。该系统采用可移动掩模对准器构建,可同时处理大小光掩模,分辨率可达到3 μ m ±。开放式框架设计和高容量对齐器可以为各种设备高效地生产各种光掩码。PE-250R2-SE的UV光源是基于一个氘灯，它提供205-405 nm范围内的光谱，并提供10 mW/cm2的最大强度。该单元可以使用手动模式操作，也可以在程序控制下操作，能够协调多个光源设置和蒙版曝光。USHIO PE-250R2-SE曝光机已经开发出具有安全功能，以保护曝光盘和遮罩对准器免受意外使用。该工具配有一个检测人员存在的安全垫和一个停止资产的紧急开关。此外，该模型被单独封闭，以确保与可能影响其性能的灰尘和其他粒子隔离。PE-250R2-SE设备采用全自动掩模装卸系统。一系列传感器可确保正确定位光掩码,并且由于所有过程都是自动化的,因此错误会最小化。对曝光条件的一系列调整使得精确控制曝光过程成为可能。USHIO PE-250R2-SE单元还配备了数据管理机器，允许管理和存储多个掩码程序。其中包括一个微处理器控制器,它允许设置多个曝光配置文件。还可以从PC和其他外部设备远程控制曝光,从而提高工具的可用性。PE-250R2-SE采用冷却资产构建,确保模型保持在最佳温度下,从而实现高效、准确的操作。总体而言,USHIO PE-250R2-SE设备是寻求可靠高效EXP系统的用户的理想选择。该设备提供高分辨率、精确的曝光设置和一系列内置功能,以实现高效且值得信赖的光掩模曝光过程。PE-250R2-SE的设计多种多样,易于使用,确保了任何电路板制造过程的最佳生产线。