二手 USHIO PE-250R2-SEPE #9280625 待售

USHIO PE-250R2-SEPE是为超高精度半导体加工而设计的一系列高端曝光系统。它使用激光束以极高的精度和无与伦比的重复性将图样投射到晶片上，使晶片的生产具有高密度和均匀性。设备配备150 mm晶片级和6轴运动机构，精确控制晶片的位置和角度。高精度快门系统、5轴电动舞台、智能软件，既保证了准确性，又延长了机组的可用寿命。该机具有特殊的聚焦模式，可根据晶片预定的聚焦深度自动调整焦点位置，确保高清度图样以更高的精度射到晶片上。该工具具有集成的自动聚焦资产、焦点补偿和自动平整以及自动晶圆检测等高科技功能。它在组合扫描过程中起作用,允许为各种不同的过程提供广泛的模式库。PE-250R2-SEPE提供超高精度、重复性和可靠性,并为各种设备和过程提供单一的设备平台。其无与伦比的精确度允许精确的图样放置和曝光，这在半导体工业中至关重要，因为精确度和可重复性是质量保证的基石。USHIO PE-250R2-SEPE与通常用于制造高端芯片的SOI、SiGe、HV-SiC、SiC和AlN基板等难加工材料兼容。该型号采用紧凑的设计和先进的安全措施，如光束百叶窗、门传感器和联锁装置，可以安全高效地操作。综上所述，PE-250R2-SEPE是为半导体晶片的超精密处理而设计的最先进的曝光设备。它允许晶片被精确的阵列和无与伦比的准确性和不容忍暴露。USHIO PE-250R2-SEPE与难以加工的材料兼容，并附有先进的安全措施，以确保高效和安全的操作。