二手 USHIO UMA-1002-HC93NM #9096447 待售

USHIO UMA-1002-HC93NM曝光设备是一种高性能、最先进的微量和纳米级设备光刻工具。该系统采用极其精确的激光干涉对准装置，利用两束十字光束确保光刻胶的精确对准和定位。即使在处理极薄的抗蚀剂层时,这也确保了很高的可重复性结果。为了满足当今下一代集成电路的需求，该机采用了广泛的可调参数来精确控制紫外线暴露过程。这包括可变基板功能和多种对齐模式。这些功能使用户能够微调曝光过程,以实现更高的分辨率和精确的阵列。UMA-1002-HC93NM配备了集成投影镜头工具，利用高NA物镜和最先进的远场准直仪实现了优异的成像性能。投影镜头资产还包括一个可调物镜模型，用于对装置的俯仰、对准和聚焦进行精确调整。USHIO UMA-1002-HC93NM利用313 nm的UV源,在使用传统光刻胶时对其进行调整以获得最佳效果。这个来源也可以与其他高科技替代品如感光聚合物和碳纳米管一起使用。设备的取放能力让用户能够准确定位石英、玻璃、塑料膜等细腻的基板。该系统具有坚固、触摸屏操作的控制面板,用户可以轻松访问和调整其各种参数。用户友好界面还提供监控功能，确保定期调整所有参数，以保持最佳性能。总体而言，UMA-1002-HC93NM是一个先进和高度可靠的单元，旨在满足现代高科技半导体产业的需求。这款可靠、精密的工具采用集成投影镜头机，可实现卓越成像，微调曝光过程的可调参数，以及直观的触摸屏控件，用于调整设置和监控性能。