二手 USHIO UMA-2003 #9397449 待售
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ID: 9397449
晶圆大小: 12"
UV Cure system, 12"
Process: 6500-35 Gate resist cure
Basic system: UMA-2003-H120F UVC
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Wafer:
Semi wafer M28: 775, ±25 µm
Wafer type: Notched
TDK TAS-300 Carrier
Interface: (2) FOUP
With semi compliant MENV and FIMS assemblies
Carrier ID: (2) Bar codes
Display with EMO: Front and back
(4) Front side lamp power supplies
Interlocks: Power supply unit and mini-environment with panel
Lamp house
Cable length: 15 meter
Signal tower
HP CL Plate with vacuum
Detection sensor: Port 1 and 2
Lamp power supply
Chiller
Robot controller
Exhaust: 6m, 3/min
Lamp cooling: 20m, 3/min
(3) Lamp exhausts: 7m, 3/min
Water supply:
Chiller:
Temperature: 25°C
Flow: 60 L/Min
Pressure: 1 Mpa
Main unit:
Temperature: 10°C - 25°C
Flow: 60 L/Min
Pressure: 0.5 - 0.6 Mpa
Gas:
Gas name / Flow rate / Pressure
CDA / 5.4 - 280 / 0.5 - 0.6 Mpa
N2 / 10 - 50 / 0.5 - 0.6 Mpa
Vacuum / 80, 40L/min / -
Chiller power supply: 200 V, ±10 V, 50/60 Hz, 33 A, 3-Phase
Power supply: 200 V, ±10 V, 50/60 Hz, 175 A, 3-Phase.
USHIO UMA-2003是为各种喷射和放置材料设计的自动曝光设备。该系统广泛应用于电子行业，能够快速、准确地向玻璃、金属、塑料等表面喷射和放置材料。USHIO UMA 2003是一个高度可靠的单元，提供高质量的输出。曝光机的最大紫外线曝光面积为800 x 800毫米，并具有可变功率头，最大曝光面积为200 x 200毫米。曝光工具可以很容易地进行调整，以满足每种材料的曝光需求。这种曝光资产利用石英曝光灯来确保均匀和一致的曝光。可编程控制器可确保精确控制暴露时间、能量水平和强度等暴露参数。这样做是为了确保材料在整个暴露过程中暴露于正确剂量的能量。控制单元还具有精确定时的关闭功能,以确保获得最佳效果。UMA-2003具有许多安全功能,以确保安全的操作环境。其中包括安全互锁、安全开关和警告模型，以提醒操作员任何潜在的暴露风险。设备还配有全套工具和配件，以确保高效运行和维护。附件包括一个管处理夹具，曝光强度监视器，灯和曝光控制系统。这包括一个集成的24小时时钟和安全开关,以确保在达到曝光时间时关闭设备。该机器还提供培训和技术支持，以确保操作员和技术人员熟悉该工具及其功能。这确保了资产的安全高效运行，并实现了最佳效果。UMA 2003提供了一个安全、可靠和高精度的解决方桉,可满足各种暴露应用程序的需求。USHIO UMA-2003以其高效、准确的操作,是电子行业和接触喷射和放置材料的个人的可靠且受欢迎的解决方桉。
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