二手 USHIO UMA-802-HC55RM #9392072 待售

USHIO UMA-802-HC55RM曝光设备是一种高精度的单束面罩对准器.它专为光刻和纳米印刷技术而设计，提供高度精确的感光材料放置和成像。该系统包括一个紧凑、风冷的紫外线光源、一个80毫米的真空板和一个自动视觉对准单元。紫外线光源采用金属卤化物弧灯，额定功率250瓦，曝光波长350至450纳米。它的石英反射器保证了光线的精确聚焦，它的1500瓦电源保证了可靠和一致的性能。光源可靠性高，可以长时间连续使用。UMA-802-HC55RM的真空板结构高，圆周运动范围为16微米，保证了光敏材料的放置精度。该板设计用于保持其表面污垢的精度，而板的运动也由差动驱动螺钉辅助。真空板也允许X轴和Y轴内的运动，以更精确的对准。USHIO UMA-802-HC55RM的自动视觉对准机高度精确，可以编程以寻找光敏材料并将其对准预设覆盖模板。这样可以确保每次都有一个准确和可重复的过程。对齐工具还包括自动对焦功能，允许用户利用其在纳米印刷品光刻等应用中的功能。最后,UMA-802-HC55RM曝光资产具有先进的光学封装.光学封装包括消色差透镜、分束器和光圈。光学器件有效地消除了任何像差问题，允许波长均匀性和效率。光学元件还具有在UV范围内的扩展模型，允许更高速度的图像形成。总体而言，USHIO UMA-802-HC55RM曝光设备是最先进的生产单元，适用于光刻和纳米印刷技术。它以高精度单束遮罩对准器、强大的UV光源、高精度真空板、先进的自动视觉对准系统和先进的光学封装提供可靠一致的性能。UMA-802-HC55RM对于需要可靠和精确暴露装置的实验室来说是一个绝佳的选择。