二手 USHIO UVFLS-172-VP-QC #9328864 待售

USHIO UVFLS-172-VP-QC是一种专业的曝光设备，用于将光源暴露在基板上进行研究和生产模拟。该系统能够对各种不同的材料产生高辐照度，具有广泛的曝光密度和曝光时间。该装置包含一个紫外线光源，能够产生365 nm和325 nm波长的紫外线，热量输出高达9000W。它还有一个内置快门，允许曝光时间从1毫秒到3分钟不等。此外，该装置还设有动态真空装置，防止灰尘颗粒进入暴露区域。该装置具有172厘米x 172厘米的生产阶段，可调至45度，以获得最精确的曝光结果。机器还有一个自动对齐工具来创建最精确的模式。资产支持金属、聚合物、树脂、塑料等多种不同的材料。装置中的紫外线荧光灯也可以冷却到-15摄氏度，防止可能暴露的紫外线活性材料降解。此外,UVFLS-172-VP-QC还包括一个用户友好的控制面板,可实现精确的每次自动曝光。设备可以使用六种不同的曝光模式之一进行编程，包括禁用、恒定电源、中断、稀疏电网和可变电源。此外，该装置还具有空气冷却模型，以减少紫外线光源产生的热量。USHIO UVFLS-172-VP-QC的另一大特点是内置QC设备,可确保质量暴露结果。该系统包含视觉检查、灯光监控、图桉精度和用户定义的曝光参数等多项功能。它还包含一个内置的安全单元，用于监视机器，以确保所有安全协议得到遵守。总体而言,UVFLS-172-VP-QC是一种通用且可靠的专业曝光工具。它提供了广泛的特性和功能,使其成为希望产生精确曝光结果的实验室和研究机构的理想选择。该资产能够利用能够达到热量输出9000W的紫外线光源产生不同的曝光时间和密度。它还包括一个用户友好的控制面板，动态真空模型，和一个内置的QC设备，以确保质量曝光结果。USHIO UVFLS-172-VP-QC具有多种不同的特性和产生精确曝光的能力,是任何研究机构的绝佳选择。