二手 EDWARDS EUV Ezenith #9300637 待售

ID: 9300637
Abatement and pump rack Used for ASML EUV Lithography systems (2) EDWARDS Atlas Nova Abatement systems (8) EDWARDS Pump racks (9) EDWARDS pHX6000 Pumps, Running hours: 2,300 to 3,000 (9) EDWARDS iXH3045H Dry vacuum pumps P/N: NRE418000 Running hours: 7,500 to 8,500.
EDWARDS EUV Ezenith是为半导体光刻应用而设计的设施设备。它是生产集成电路、平板显示器和微机电系统(MEMS)的高分辨率图像的必要工具。Ezenith利用极紫外线(EUV)辐射在这些组件上创建图像,从而实现具有低污染风险的精确特征。Ezenith波长范围很广,从7.0nm到40.0nm,意味着任何EUV光刻应用都可以利用它。此外,它的大光学光圈允许它产生较长的焦距,从而可以以较高的分辨率成像较大的尺寸。Ezenith还因其真空和温度控制的环境,以及其高刚度的框架,提供了高工艺重复性。这样可以确保每次使用光刻工具时都会在项目上重新创建相同的图样。Ezenith的有源光学设备有助于元件的精确对准,而它的大型动态带状透镜可以对基板进行完美的成像。成像系统配有高灵敏度传感器,可确保图像清晰度和高精度对准,同时最大限度地减少曝光时间。Ezenith还包含一个可自定义的用户界面,它可以方便地操作机器,并可以自定义用于衍射、成像和扫描的参数。这些功能使Ezenith能够产生最佳的工作流效率。所有这些都由高级伺服控制单元支持,该单元可防止机器崩溃或发生故障。Ezenith的伺服控制机也有助于减少振动,这个问题如果不加以检查就会对图像造成干扰。最后,Ezenith提供简单的维护选项,使其成为洁净间和半导体制造车间的理想选择。它可以配置为自我诊断、识别问题并允许在需要时重新校准。这样就不需要在进行维修时关闭机器,从而实现最大的正常运行时间。总体而言,EUV Ezenith是一种非常先进的半导体光刻应用设备。其众多功能,如其主动光学工具、区域镜头、伺服控制资产、用户友好界面,使其成为寻求速度、精度和可重复性的洁净室和半导体制造厂的完美选择。
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