二手 KLA / TENCOR IB840F #9293038 待售

KLA/TENCOR IB840F是一种设施设备，用于检查CMP工艺后产生的精细晶片表面。该设备由四个独立的互连模块组成，专门用于结构审查，包括数字图像采集、舞台自动对焦校准、照明审查和图像分析。数字图像采集（DIA）模块在像素级别测量样品的非视线光学特性。DIA模块采用两个独立的基于吞吐量的阵列摄像头。Stage Autofocus Calibriation （SAFC）模块精确定位要检查的晶片。SAFC模块配备了二维线性级和五级微调机构。IR模块可精确检查样品的微观特征。红外模块利用各种照明模式，可以容纳不同的材料和结构。最后,图像分析（IA）模块提供了强大的图像分析和表征工具。IA模块使用计算机辅助工具,允许用户测量结构的多个参数。本模块还采用自动决策算法检测关键缺陷。为了确保精确可靠的结果,KLA IB840F集成了最新的技术和功能,包括自适应光学、可变的本机像素速率和数字化带宽控制。该系统利用先进的光学器件和高功率光源来检测细微到亚微米级的特征。它的摄像系统以每秒256帧的速度运行，以生成和获取高分辨率图像。除此之外,该单元还包括一个彩色滤光轮,可帮助从多种颜色获取图像。此外,机器的高级数据分析算法允许用户提取基于物理的详细信息,以准确识别缺陷。而且，其直观的用户界面提供了数据的图形表示，帮助研究人员轻松比较图像。总之，TENCOR IB840F是一种用户友好、高度可靠的设施设备，用于检查CMP工艺后生产的晶片的细腻结构和表面。此工具配备了自适应光学、可变本机像素速率、数码化器带宽控制、彩色滤光片等多种功能。此外,它还与有助于检测关键缺陷的高级数据分析算法集成在一起。