二手 LAM RESEARCH OX-DEP.A3 #293628077 待售
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LAM RESEARCH OX-DEP.A3是一种高性能设备，在半导体工业中用于将氧气薄膜蚀刻和沉积到硅片表面上。这一过程被称为牛沉积，用于制造具有高导电性的纤薄层，例如晶体管元件或其他电子元件。该设备旨在以最高效率运行，并为各种氧化物蚀刻和沉积应用提供一个稳定的工艺平台，从低成本的浅层氧化物沉积到高温的高掩模氧化物蚀刻。该OX-DEP.A3具有高效的气体输送系统，确保精确的气体控制，并在整个晶片表面提供精确的均匀蚀刻和沉积速率。该容量通过使用多个高通量氧化铝（Al2O3）卡盘组件和石英压电喷射器来实现。该设备在蚀刻/沉积循环的所有阶段提供高度控制，包括晶片加载和处理、均匀的蚀刻和沉积速率、均匀的材料厚度和最小的污染。OX-DEP.A3上的牛沉积过程是完全自动化和监测的，使其能够始终如一地高速提供质量结果。先进的数字控制系统使技术人员能够快速调整编程过程参数，并实现实时反馈和监控。为确保最佳性能,采用超高真空（UHV）等先进的现场监测技术检测污染物,并确保沉积速率、流速和离子轰击在可接受的范围内。OX-DEP.A3采用3800mm x 2700mm x 800mm（W x D x H）的大型不锈钢腔室设计，高压操作高达600mtorr，具有10,000瓦的电阻加热能力。这种高性能的设备设计既坚固又可靠，能够提供有效的氧化物蚀刻和沉积过程所需的准确性、高吞吐量和低维护。它结合了先进的特性、先进的监控技术和可靠的性能，使其成为研究和生产应用的理想选择。
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