二手 STEC LF-310A-EVD #198118 待售

STEC LF-310A-EVD
ID: 198118
Mass flow controller Flow: .5g/min Gas / liquid / vapor: TEB.
STEC LF-310A-EVD是专门为蒸发沉积目的而设计的高质量设施设备。它是一种先进的设备,已经创造出能够施加金属蒸发的薄膜在各种基板上。这类沉积设备主要用于半导体和光电子的研发。该系统具有极高的精确度和可重复性,具有实现金属和电介质极精确沉积的能力。LF-310A-EVD由几个主要组成部分组成。这包括一个腔室、两个内部蒸发源、一个计算机监视器和一个控制器。腔室作为单元的物理框架,是机器的所有组件所在的位置。它由绝缘和耐热的耐腐蚀材料构成。室内有一个内部蒸发源,由两个独立的热源组成。这些热源将蒸发从金属源传递到基材上。计算机显示器和控制器是两个独立的组件。计算机监视器用于提供该工具的视觉表示,而控制器则用于操纵和控制蒸发沉积资产的各种操作。它包括几个旋钮和按钮,允许用户重置参数、监视模型的性能和更改设置。此外,还有一个独立的计时器,允许用户调整设备运行的时间。STEC LF-310A-EVD用途极为广泛,可用于多种沉积过程中.该系统也很精确,可用于镜面涂层和介电沉积等多种应用。这使得它成为那些需要生产高质量、精密薄膜的人的理想选择。它也是无害环境的,因为它采用闭环工艺,尽量减少对危险化学品和材料的需求。总体而言,LF-310A-EVD是一种高性能设备,专门设计用于在各种基板上施加金属薄膜和介电蒸发。它由几个组件组成,包括一个腔室、两个内部蒸发源、一个计算机监视器和一个控制器。它的多功能性、准确性和环境友好性使得它成为那些需要精密底片的人的理想选择。
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