二手 TEL / TOKYO ELECTRON 849 CHP #9195625 待售

ID: 9195625
Chilling hot plate process station Removed from TEL ACT12-200 system, 8" Assembly includes: 2985-41180-w6 CHP PEB SUB UNIT Assembly 2985-437216-w8 Base (ACT 12-CHP) Assembly col 2980-091282-12 Col plate AT12-SP-NDK 2985-410708-W2 CHP Plate support assembly 2985-411097-W1 CHP Chamber assembly 2980-091282-12 Col plate AT12-CP-NDk.
TEL/TOKYO ELECTRON 849 CHP是一种能够自动化学气相沉积(CVD)的机器。该机以其智能高效的过程控制软件,为优越的过程控制和挥发性排气控制而设计。它具有高达800°C的温度范围,以及1200 W的低功率磁控管电源,以实现出色的工艺控制。TEL 849 CHP还采用了多项先进的安全技术,如超压传感器。对于那些使用高精度零件的人来说,这台机器是一个绝佳的选择,因为它提供了出色的过程控制,有助于维护成品的质量。TOKYO ELECTRON 849 CHP还配备了多项先进功能,使其非常适合大规模生产。它的模块化设计允许轻松交换组件,并且能够轻松处理高工作负载。它的高级专有软件使监控每个进程成为可能,以确保其运行顺畅并按照规范运行。它能够处理各种沉积物,从简单的层膜到压电、MEMS等先进材料。与传统的CVD方法相比,849 CHP还具有多种优势。它具有更快的处理时间和更好的沉积均匀性。该机的腔室还设计用于改进排气控制和低颗粒污染。其软件还使研究人员能够准确预测成品的表面光洁度。总体而言,TEL/TOKYO ELECTRON 849 CHP是大型生产和小型研究的绝佳选择。它配备了多项先进的安全功能和过程控制软件,以及高效的电源。它的模块化设计可以方便地交换元件,它的高级软件可以准确预测成品的表面光洁度。这台机器肯定是任何严肃的研究者或机构的宝贵资产。
还没有评论