二手 AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 #9211571 待售
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已售出
ID: 9211571
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Ion implanter, 12"
Wafer type: Notch
Wafer per batch: 13
(4) Load ports
(2) Cyro pumps:
Process chamber: HELIX 350 mm on board
Turbo pumps:
EDWARDS STP-A2203 WAV
EDWARDS STP-451C
Dry pumps:
EBARA 40*20
EBARA 65*40
EBARA A70W
High voltage: Drift mode voltage
Low range: 1.0 kV ~ 10.0 kV
High range: 10.0 kV ~ 80.0 kV
2006 vintage.
AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300是一款设计用于制造电子元件的双束离子植入器和显示器。AIBT iStar 300是一种高效的工具,允许精确控制和精确植入掺杂剂以生产半导体元件。这种离子植入器和监测器具有广泛的特点,包括粒子束电流的调节、束轮廓的监测、束电流的自动优化、植入物深度的调节、表面发射的调节。ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300具有强大的离子源,能够根据材料类型和应用产生几种不同的离子种类。这允许广泛的植入,包括硼,砷,磷和的。IStar 300还配备了高流量快速充电交换真空泵和精确调节植入物参数的压力表。AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300设计为用户友好,配备自动化配方设备,便于设置和监控植入参数。AIBT iStar 300附有图形化的使用者介面,让光束电流、电流展平、光束轮廓、光束收敛、光束光谱纯度等参数容易调整。此外,这种离子植入器和监测器可以调节植入物的深度和表面发射参数。ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300配备了多种诊断工具,包括离子能谱仪、光束表征成像系统、电光谱仪和离子深度测量单元。此外,它还能够用自动驾驶仪监测离子束电流和束轮廓,从而对植入物参数进行连续监测和控制。总体而言,iStar 300是一款先进的离子植入物和显示器,旨在为制造电子元件植入掺杂剂提供高精度、准确性和性能。它具有强大的离子源,能够产生多种不同的植入物类型,以及各种诊断和监测工具。图形用户界面使得设置和调整植入参数变得容易,让用户从他们的AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300离子植入器中获得最大的收益。
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