二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9066908 待售

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ID: 9066908
晶圆大小: 8"
High current ion implanter, 12" Mini E: Felcon unit fitted, No UCAS MMTX VME Light tower fitted Post Accel QIII Type Tilt: +/- 15º Scan and beamstop mods QIII ABM Option fitted (6) Positions gas panel (1) High pressure toxic module Source: QIII with (4) pins connector IHC Chassis: Single Arc PSU DSP Type: 0100-00838 Tetrode version: Surge R: 9090-01382 PSU: 1140-00161 (A1028760) Extraction area: EVR fitted Delate: 0100-01445 Pre Accel PSU: 9090-00397ITL Leybold Mag drige Digital controller VME & Main PDU Side On-board CTI Cryo controller Pumps removed CE-Marked.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III是一种先进的双光束、高电流离子植入器和监控器,能够在各种基材上提供精确可靠的离子植入。AMAT Quantum Leap III的核心是利用束线和离子源技术,加上先进的束和源处理,提供高度精确和精确的离子注入基材。这种集中的离子能量和植入电流允许同时进行大范围植入。应用材料Quantum Leap III所利用的各种束线元件设计,以优化离子植入过程的速率和精度。光束线,包括离子源、光束控制单元、光束偏转单元和优化的光学器件,都经过优化,为包括金属、半导体、聚合物在内的各种基材材料提供了最好的离子注入。光束和光源组件的这种强大组合使Quantum Leap III能够提供植入电流,范围从几十纳安到几十千安,都取决于所需的植入过程结果。AMAT/APPLICED MATERIALS Quantum Leap III除了其光束和源元件外,还配备了监视器,提供离子植入过程的实时数据。该监视器由一个腔室控制单元和高级诊断程序组成,展示了植入电流、能量和植入深度等各种参数。这允许用户实时查看植入行为,允许在需要时立即进行洞察或更改。此功能已被证明对提高植入精度和性能非常有用。AMAT Quantum Leap III Ion Implanter and Monitor是一个高效有效的系统,旨在为各种基材材料提供优质可靠的植入过程。其先进的波束线组件、监视器和诊断程序组合,为用户提供精确、强大的植入功能,以及实时数据,以便用户可以根据需要调整或优化流程。
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