二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / VARIAN Solion XP #9208076 待售
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已售出
ID: 9208076
优质的: 2015
Boron ion implantation system
Gross steady state throughput: ≥ 3000 wph
Boron blanket implant: Up to 2.5E15 steady state 3000 wph
Breakage rate: < 0.10%
Operation up-time > 90%
Metal contamination: > Fe, Ni. Cr, Mg, < 2E10 atoms/cm2
Wafer uniformity within 3%
Wafer to wafer repeatability: 4%
Wafer:
Substrate dimension: 156 mm
Substrate thickness: 180 to 220 um
Substrate geometry: Pseudo square
Substrate surface: Textured wafer
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/VARIAN Solion XP是一种用于半导体生产的高精度离子植入器和监控设备。它为制造半导体、显示器和其他电路提供快速、精确和准确的离子注入和监控。它能够植入高达1200 A/cm2的掺杂剂浓度,并提供三维分辨率低至30 nm的类似生命的成像。AMAT Solion XP还具有主动位置监控和闭环源电源控制功能,使其成为高分辨率成像应用的理想选择。XP配备了最先进的扫描室、高分辨率离子探测器和精密晶圆处理系统。它采用用户友好选项设计,如自动资源分配、自校准和软件控制。这些功能使用户能够在工作人员很少参与的情况下准确高效地植入。它还具有易于使用的图形用户界面(GUI),使编程和参数设置变得简单明了。VARIAN Solion XP具有可调的光束尺寸和对齐方式,可实现最佳的植入精度.它的自动调谐单元可以自我校正任何环境干扰,使得它在均匀植入和辐射场应用中都具有很高的可靠性。自动电源控制在整个植入过程中保证均匀的光束功率。APPLICED MATERIALS Solion XP也可用于实时监控过程,允许快速纠正措施。机器配备了检测设备,可以测量和报告光束通量、电流、扩散、光斑大小和频率。它还有一个多通道序列实现工具,允许复杂和精确的植入规范。对于希望通过优化植入过程来降低成本和保持质量的制造商来说,Solion XP非常理想。其可扩展性和先进的特性使其成为半导体行业未来创新的平台。AMAT/APPLICED MATERIALS/VARIAN Solion XP具有卓越的精确度和灵活的编程功能,是任何企业都能使用的强大而可靠的设备。
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