二手 EATON / AXCELIS NV10-160 #293829428 待售

ID: 293829428
晶圆大小: 3", 4", 5" 6" (capable)
High current implanters, 3", 4", 5" 6" (capable) Maximum implant energy: 160 keV Beam current range: 0.5 - 8mA End station: Manual load Automatic wafer handling: No AT4 Source: Standard Gas box: 4 ELB Strings Vacuum: Dry pump + Diffusion pump Control system: Standard console Operational status: Currently operational Included disks: (2) 2-pt clamps, 4" (4) Clampless , 6" (2) Clampless . 4" (4) Full rings, 4” Full ring, 6” Full ring 0 deg, 4” 2-pt, 3” Full ring, 3” Spare parts: (2) Ion source (2) Manipulator (2) Flag faraday (2) Source bushing (2) Source cooling flange Source isolation valve.
EATON/AXCELIS NV10-160是一种高度先进的离子植入器和监控设备,设计用于半导体行业的精密植入应用。离子植入器作为集成电路和其它半导体器件制造过程中的关键部件,在确定最终产品的电气特性和性能方面起着至关重要的作用。EATON NV10-160模型提供业界领先的性能、能力和可靠性,以满足现代半导体制造的苛刻要求。离子植入是一个过程,涉及用高能离子轰击目标材料,以改变其化学成分和物理性质。这一技术广泛应用于半导体制造中,将掺杂原子引入硅晶片,在半导体器件中创造出所需的电气特性。AXCELIS NV10-160离子植入器经过专门设计,能够以极高的精确度和可重复性为植入过程提供精确和受控的离子束。NV10-160系统配备了先进的离子源技术、束线组件和控制系统,以确保最佳性能和效率。离子源通过电离等离子体室内的气体原子并利用电磁场将其加速向目标材料产生高能离子。光束线元件,包括各种聚焦元件、能量分析仪和光束扫描仪,在植入过程中用于塑造、控制和监控离子束参数。EATON/AXCELIS NV10-160离子植入器的关键特征之一是其高能能力,使其能够植入能量和剂量范围广泛的离子,以满足多样化的工艺要求。该装置能够输送能量高达160 keV的离子束,为不同的半导体材料和器件结构提供深度植入剖面和大剂量应用。此外,EATON NV10-160提供精确的光束电流控制和剂量监测能力,以确保准确和一致的植入结果。除了先进的植入能力外,AXCELIS NV10-160离子植入器还配备了综合监控机器,便于高效操作和工艺优化。该工具具有实时光束诊断、过程监控工具和高级软件算法,用于检测和纠正植入过程中离子束参数的任何偏差。这样可以确保稳定和可重复的性能,最大程度地减少工艺变化,并提高半导体器件的总产量和质量。此外,NV10-160离子植入器是为满足半导体生产环境要求而设计的,具有很高的生产率和可靠性。该资产包括坚固耐用的组件、先进的真空系统和先进的自动化功能,以确保连续运行和最小的停机时间。该模型还提供用户友好的界面、直观的软件控制和远程监控功能,以简化操作员的设置、操作和维护过程。总体而言,EATON/AXCELIS NV10-160离子植入器和监控设备代表了先进半导体制造应用的最新解决方桉。EATON NV10-160具有卓越的性能、多功能性和可靠性,非常适合半导体制造设施中的各种植入过程,使制造商能够实现高质量、高性能的半导体器件,并提高效率和成本效益。
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