二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 100-HC #293829779 待售

ID: 293829779
晶圆大小: 6"
Ion implant, 6" (4) Cassettes Standard specific layout ELS Source Source analyzer magnet Parallel beam sweep Beam energy configuration: Beam energy: 10 ~ 160 keV Extraction mode: 10 ~ 80 keV Acceleration mode: 10 ~ 80 keV Vacuum pump system: Diff pump: VHS Cryo pump: CTI-8, CTI-10 Cryo compressor: CTI9700A Dry pump: IQDP40, IQDP80 Gas / Model / MFC Type AsH3 / Needle valve / SDS PH3 / Needle valve / SDS BF3 / Needle valve / SDS Ar / Needle valve / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 100-HC是为高性能半导体制造工艺而设计的最先进的离子植入器和监控设备。这种先进的设备将精密离子植入能力与先进的监控功能相结合,以确保最佳的操作效率和产品质量。它是由EATON Corporation和AXCELIS Technologies合作开发的GSD系列的一部分,AXCELIS Technologies是半导体设备行业的两个着名领导者。AXCELIS GSD 100-HC的核心是其离子植入技术,它涉及将离子加速到高能,引导到目标基板上以改变其材料特性的过程。这一技术对于半导体制造具有特定杂质的掺杂硅晶片以在集成电路中产生所需的电特性至关重要。EATON NOVA GSD 100-HC在提供高能量水平和可调节剂量率的精确离子束方面表现出色,允许定制植入参数以满足不同的工艺要求。GSD 100-HC的主要特点之一是其先进的监测能力,能够实时跟踪和分析离子植入过程。该系统配备了多个传感器和探测器,对光束电流、能量、入射角和植入深度提供详细反馈,确保对植入过程的精确控制和监控。这种实时数据采集和分析使操作员能够立即进行调整,以优化过程参数,并确保一致和可靠的结果。EATON NOVA/AXCELIS GSD 100-HC具有高度的自动化和可编程性,便于集成到半导体制造生产线中,并与其他制造设备实现无缝操作。该单元具有一个用户友好的界面,允许操作员设置流程配方,监控性能参数,并使用直观的软件工具分析数据。这种用户友好的设计最大限度地减少了操作员的错误并最大化了操作效率,使得AXCELIS GSD 100-HC大容量半导体生产环境的理想选择。在性能方面,EATON NOVA GSD 100-HC在离子植入过程中提供了卓越的可靠性和可重复性,确保了一致的结果和高质量的产品。该机设计用于在整个基板表面输送精确而均匀的离子束,最大限度地减少掺杂剂浓度和电特性的变化。这种精度水平对于半导体器件的性能和可靠性至关重要,使GSD 100-HC半导体制造商的宝贵资产。总体而言,EATON NOVA/AXCELIS GSD 100-HC离子植入器和监控工具代表了先进半导体制造工艺的前沿解决方桉。它结合了高性能离子植入技术、先进的监控能力、自动化功能和用户友好的界面,使其成为生产高质量半导体器件的通用可靠工具。这一资产体现了EATON Corporation和EATON NOVA Technologies对半导体设备创新和卓越的承诺,支持业界向更高水平的性能和生产率迈进。
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