二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200-HC #293829781 待售
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ID: 293829781
晶圆大小: 6"
Ion implant, 6"
(4) Cassettes
Standard specific layout
ELS Source
Source analyzer magnet
Y Scan and rotary
Beam energy configuration:
Beam energy: 10 ~ 160 keV
Extraction mode: 10 ~ 80 keV
Acceleration mode: 10 ~ 80 keV
Vacuum pump system:
Diff pump: Diff pump8
Cryo pump: CTI-8, CTI-10
Cryo compressor: CTI9700A
Dry pump: IQDP40, IQDP80
Gas / Model / MFC Type
AsH3 / MFC / SDS
PH3 / MFC / SDS
BF3 / MFC / SDS
Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC是为高精度半导体处理应用而设计的尖端离子植入器和显示器。该设备利用先进的技术和创新的功能,在离子植入过程中提供无与伦比的性能和可靠性。AXCELIS GSD 200-HC的核心装有一个高电流离子源,能够产生极高精度和精确度的聚焦离子束。该离子源被安置在真空室中,以尽量减少污染,并确保整个植入过程的性能一致。离子植入过程本身涉及轰击一种具有高能离子的底物,以改变其材料特性,并产生特定的电特性。EATON NOVA GSD 200-HC能够精确控制离子的能量、剂量和分布,以达到所需的植入轮廓,使其成为广泛半导体制造应用的理想选择。GSD 200-HC的一个关键特点是其先进的光束线系统,其中包括静电和磁性元素,以高精度地操纵和聚焦离子束。这个光束线单元允许精确控制植入过程,确保离子以最小的发散和散射传递到基板上。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC除了其出色的光束线机外,还配备了综合监控工具,以优化植入过程。该资产包括对光束电流、能量和剂量等关键参数的实时监控,使操作员能够微调过程以获得最佳性能。AXCELIS GSD 200-HC的另一个重要特点是其先进的晶圆处理模型,自动化基板的装卸,最大限度地减少停机时间,最大限度地提高吞吐量。这种设备可以容纳各种基材尺寸和形状,使其在不同的半导体制造应用中具有高度的通用性。为确保离子植入过程的安全性和可靠性,EATON NOVA GSD 200-HC配备了一系列安全联锁和监控系统,以防止事故发生,确保平稳运行。这些安全特征包括辐射检测传感器、真空泄漏探测器以及紧急关机机制,以保护操作员和设备。总体而言,GSD 200-HC代表了最先进的离子植入器和显示器,为半导体制造应用程序提供卓越的性能、可靠性和多功能性。该系统以其先进的技术和创新的特点,非常适合半导体行业的高精度植入工艺,成为优化器件性能和产量的重要工具。
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