二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200-HC #293829783 待售

ID: 293829783
晶圆大小: 6"
Ion implant, 6" (4) Cassettes Standard specific layout ELS Source Source analyzer magnet Y Scan and rotary drive Beam energy configuration: Beam energy: 0 ~ 80 keV Extraction mode: 0 ~ 80 keV Vacuum pump system: Turbo pump: Seiko seiki pump STPA2203C2 Cryo pump: CTI-On board-8, On board-10 Cryo compressor: CTI-9650 Dry pump: QDP-80 (Two units) Gas / Model / MFC Type AsH3 / MFC / SDS PH3 / MFC / SDS BF3 / MFC / Standard Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC是为高通量半导体处理应用而设计的尖端离子植入器和显示器。这种先进的设备采用了最先进的技术,为生产质量和性能卓越的集成电路提供精确可靠的离子注入。NOVAAXCELIS GSD 200-HC专为满足半导体行业苛刻的要求而设计,提供卓越的工艺控制、多功能性和效率。EATON NOVA GSD 200-HC的核心是其离子植入室,该室容纳先进的离子源技术,产生并加速离子,以实现精确的植入深度和能量。该系统配有控制离子束轨迹和强度的先进束线单元,确保在半导体基板上均匀掺杂。离子源具有高电流、高能量的能力,使各种具有不同能量的离子物种的植入能够满足多样化的工艺要求。NOVAGSD 200-HC配备了创新的光束监控机,可实时连续监控离子束特性。这确保了准确可靠的离子注入,因为光束电流、能量和光斑尺寸的偏差被及时检测和校正,以保持过程的稳定性和一致性。该工具还具有全面的诊断工具和自动校准例程,可优化光束性能并最大程度地减少停机时间。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC的一大亮点是其先进的晶圆处理资产,它能够以卓越的精度和可靠性实现半导体晶圆的高通量处理。该模型能够处理范围广泛的晶圆尺寸和类型,包括硅、砷化氙和其他半导体材料,为制造商的生产操作提供了灵活性和可扩展性。晶圆处理设备采用机械臂和晶圆制图技术,以确保植入过程中准确定位和对准,有助于提高工艺产量和效率。NOVAAXCELIS GSD 200-HC除了具有卓越的离子植入能力外,还提供用户友好的界面和直观的软件控制系统,便于操作和维护。该单元配备了一整套流程监控和数据分析工具,使用户能够优化流程参数、诊断潜在问题并做出明智的决策,以提高流程性能和生产率。软件平台还支持远程监控和诊断,允许实时的流程优化和故障排除。总体而言,EATON NOVA GSD 200-HC离子植入器和监控器代表了半导体行业技术创新的巅峰。该工具以其先进的离子源技术、光束监测和控制机器、晶圆处理能力以及用户友好的界面,为半导体制造商提供了生产具有精确离子注入的高质量集成电路的可靠高效解决方桉。NOVAGSD 200-HC为离子植入技术设定了新的标准,使制造商能够站在半导体创新的最前沿,满足业界不断变化的需求。
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