二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 HE #293829786 待售
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ID: 293829786
晶圆大小: 6"
Ion implant, 6"
(4) Cassettes
Standard specific layout
ELS Source
Source analyzer magnet, FEM
Y Scan and rotary drive
Beam energy configuration:
Beam energy: 0 ~ 1200 keV
Extraction mode: 0 ~ 90 keV
Linac mode: 90 ~ 1200 keV
Vacuum pump system:
Turbo pump: SEIKO SEIKI Pump STPA2203C2
Turbo pump (LINAC): Pump P039 STP603C
Cryo pump (beam line and chamber): CTI-On board-8, CTI-On board-10
Cryo pump (beam line and chamber): CTI-On board-8, CTI-On board-10
Cryo compressor: CTI-9600
Dry pump: QDP-80 (Three units)
Gas / Model / MFC Type
PH3 / MFC / SDS
BF3 / MFC / Standard
XENON / MFC / Standard
Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 HE Ion Implanter&Monitor是一款先进的植入器设备,旨在满足半导体行业的苛刻需求。它能够植入多种离子种类,包括硼、磷、砷和氧。该系统可用于植入多种材料,包括硅片,以及其他化合物如多晶硅。由于其高剂量率和精确的光束控制系统,它具有很高的吞吐量能力。该装置具有多个最先进的离子传感器,可监控离子束中的参数并优化植入器的性能。这样可以确保这些参数保持在最高质量植入的可接受范围内。各种控制系统有助于确保保持适当的剂量以达到预期的效果。该机还提供手动控制和自动化仪表操作。AXCELIS GSD 200 HE还配备了多种安全特性。这些功能有助于确保离子束和工艺环境对操作员保持安全。它具有内置故障监控工具,可在检测到潜在危险情况时向用户发出警报。此外,资产还配备了防爆真空隔离室,有助于防止材料意外从加工室释放。EATON NOVA GSD 200 HE旨在降低半导体行业的成本和提高效率。其创新的离子监测和控制系统使其能够快速、高精度地达到更高的剂量。此外,其高速冷却模型还确保晶片在植入后快速均匀冷却,减少设备停机时间,提高晶片产量。该设备还旨在减少废物和尽量减少污染,从而提高产量和提高操作效率。总体而言,GSD 200 HE是一款先进的离子植入器,它结合了最新技术和可靠的可靠性,为半导体行业提供了卓越的植入性能。其精确的控制系统、先进的安全特性和高效的操作使其成为任何半导体应用的理想选择。
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