二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9395836 待售
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ID: 9395836
晶圆大小: 6"
Implanter, 6"
Gases: B / As / Ar
Energy: 200 keV
Throughput: 210 Pieces / Hour
25-Slots cassettes
(4) Cassettes
ELS Source head
(2) Sun workstations
VME 177 Cell controllers
(2) SDS Gas lines (ASH3 and PH3)
(2) HEWLETT-PACKARD Gas lines (BF3 and Argon)
P-Shower electron
Post acceleration high voltage, 80 keV
Belt type rotary drive
Variable implant angle
2-Axis
Real time patented dose controller
Dose range: 5E11~1E16 Ions / cm²
Arm: Standard, 8"
Wafer holder: Standard, 8"
Beam energy: 1 MeV
Beam current: 1 mA
CE Marked
Power supply: 208 V, 3-Phase, 170 A.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200是一款高性能的离子植入器和显示器，旨在满足半导体、医疗和科学产业的需求。它的设计和构建是为了在离子植入和监测过程中遵守最严格的全球质量和性能标准。AXCELIS GSD 200能够在高温、电压和电流水平下运行,以实现植入物轮廓和轮廓的卓越性能和一致性。它具有先进的高性能控制设备,能够精确控制离子束参数,特别是植入物剂量、基体温度和加速度,以确保异常均匀和可重复的光束特性。该系统还提供了广泛的可选功能,以改进对植入过程的控制,包括光束转向、数据记录、光学门和其他功能。除了卓越的性能外,EATON NOVA GSD 200还具有高能效,它利用低压操作来提高性能,减少活动部件和组件。这大大降低了功耗,从而实现了节能运行。此外，该单位还通过其先进的监测系统，如辐射和气体监测、真空感测，以及通过其高灵敏度植入物剖面监测机，提供出色的过程监测能力。这确保了对植入过程的精确控制，提高了产品产量和工艺效率。总体而言,GSD 200是一款高质量、高能效的离子植入器和显示器,能够精确控制植入物参数、过程监控和改进过程控制的高级可选功能。它旨在满足全球最高的质量和性能标准,并提高产品产量和工艺效率。
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