二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9399024 待售

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200是半导体行业的一款高性能离子植入器，提供了高度精确、高质量的植入工艺。AXCELIS GSD 200利用强大的离子源，以较高的控制度将掺杂剂引入底物材料。这样可以确保掺杂剂以必要的精确度和所需的比率沉积在基板层中。EATON NOVA GSD 200是为了极致自动化和成本效益而打造的，以「直接基板增加」（Direct Substrate Increase，简称DSI）技术，可以快速增加离子源，让植入剂的剂量更快、更一致。GSD 200的先进设备监视离子束电流，允许精确准确的剂量控制。该系统的设计目的是将离子含量最高的大量底物厚度处理到最大数量的底物上。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200是一种高度可靠、耐用的设备,使用寿命长。它设计用于精确控制离子源，并保证在基板上保持一致的光束，无论厚度如何。此外，一个专利的磁通量监测机器允许最佳性能等离子体清洗基板表面。高质量的溅射可以确保底物上的天然氧化物被清除，并且该层可以接受被引入的离子滴。AXCELIS GSD 200工具的物理构图具有最先进的设计特点。拥有专利、圆盘形环源技术、强健有力的高离子电流电子枪，以方位角扫描和植入光束垂直剖面的形式进行先进的X射线诊断，以及一整套确保精度的先进控制系统。EATON NOVA GSD 200能够同时植入多达8个离子，并提供精确的对准，以确保轮廓保真度。总体而言，GSD 200是一种优质的植入资产，旨在提供半导体行业中最准确、最具成本效益的植入工艺。其先进的离子源、广泛的底物厚度和一致的光束控制相结合，使其成为任何植入过程的理想选择。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200的最先进的设计和较长的使用寿命使其成为生产线的关键资产。