二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293813023 待售

EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2
ID: 293813023
晶圆大小: 6"
Ion implanter, 6".
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2是由EatonAXCELIS Technologies为满足半导体行业需求而设计的离子植入器和显示器。它是一种多用途、高性能的植入器,专为各种晶圆尺寸和材料而设计。这种设备的工作原理是将离子加速到晶片表面,然后该表面穿透晶片表面并植入离子。AXCELIS GSD 200E-2具有高效的真空系统,旨在防止植入物中毒.它有两个涡轮泵,两个水泵,两个毛坯泵和两个闸阀以及一组离子泵。离子泵将腔室压力保持在足够低的水平,以便进行植入.EATON NOVA GSD 200 E2还包含一个气体输送单元,用于控制气体流向晶圆表面,确保被植入晶圆的物种均匀剂量。EATON NOVA GSD 200E-2的工作压力范围为1 × 10-7至1 × 10-5 torr或Pa,晶圆直径范围为2英寸至7.5英寸。它还能够为高达30千电子伏特(keV)离子供电,最大源电流高达100毫安(mA)。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2配有主机计算机和软件,可控制植入器并监控实时数据。该软件用于编程植入的剂量、种类等参数。计算机还包含一个几何处理器以确保每个目标点的精度,以及用于查看剂量分布的映射软件。它还具有一系列安全功能,可防止未经授权的访问。GSD 200E2采用先进的安全功能,如离子源安全模块和离子疏散机,以确保人员的最大安全。安全模块监视腔室压力和气体水平,然后在参数不在可接受范围内时自动关闭刀具。离子疏散资产迅速疏散植入产品,以维护安全环境。GSD 200E-2是一种先进的模型,旨在满足业界对精度、效率和准确性的需求。AXCELIS GSD 200E2具有先进的安全特性、卓越的离子输送设备和实时监控功能,是半导体生产中非常有用的工具。
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