二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #9412140 待售
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ID: 9412140
晶圆大小: 6"
优质的: 1986
Ion implanter, 6"
Energies: 20~160 keV
Minimum beam current: 10 μA
Dose range: 5.0E12 to 5.0E15 Atoms / cm²
Beam current for 80 kev:
Energy (keV) / B11 (mA) / As75 (mA) / P31 (mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
140 / 3 / 5 / 5
Throughput:
Batch size: 10 Wafer
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 Sec
Vacuum performance:
Diffusion pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Maximum wafer temperature control: 100°C
X-Ray emission ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr) at 150 mm
No UPS
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 4 Wire, 45 kVA, 125 Amp, 60 Hz
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160是一种高能离子植入器和监视器，旨在提供微芯片和其他重要半导体器件制造所必需的精确和精确的离子植入。这台机器使用了几束离子束，这些离子束被加速并精确聚焦并扫描到目标基板上，从而改变基板的特性，创造出精确的图样和错综复杂的结构。AXCELIS NV10-160是一种精确、安全的离子注入工具.它由伊顿公司的中央处理器（CUP）提供动力，包括一系列内置的安全功能以防止事故发生，包括独立的光束监测系统、高压开关、铝束笼和用于安全气体处理的高压气体管线。EATON NOVA NV 10160在160 kV的峰值电压和1e+13 离子/cm ²的最大植入剂量下运行。本机具有光束电流高达40mA，提供对植入剂量、能量、电压和电流的精确控制。此外，NV 10160还配备了计算机化分析系统，提供精确准确的植入数据，包括深度剖析、电流密度和剂量。利用这项先进的技术，AXCELIS NV 10-160可用于植入各种各样的材料，如硅、全新、铝、铁以及其他金属和聚合物。它也能够植入掺杂剂，包括砷和磷。其大腔室尺寸意味着可以在不影响精度和均匀性的前提下植入大基质。EATON NOVA/AXCELIS NV10-160是制造先进半导体和其他精密元件的理想工具。它的精确度和可靠性使得它成为研究实验室、工业制造厂或任何其他需要精确离子植入的环境的理想选择。简而言之，EATON NOVA/AXCELIS NV 10160对于那些在任何离子植入物应用中都需要最高精度和精确度的人来说是一个非常宝贵的工具。
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