二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9227038 待售
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ID: 9227038
Implanter
Specifications:
System characteristic / Design specification (1978) / Performance specification (1982)
Energy / 10-60 keV / 5-80 keV
Beam current P,As
60-80 keV / 10 mA / 12.5 mA
40 keV / 10 mA / 10.0 mA
Sb 40-80 keV / 5 mA / 6.0 mA
B 40-80 keV / 5 mA / 4.0 mA
Throughput P,As
Up to 3E15, 3" / 300 / 235
100 mm / 200 / 350
125 mm / - / 175
1E16, 3" / 150 / 190
100 mm / 100 / 125
125 mm / 70 / 88
B up to 1E15, 3" / 300 / 330
100 mm / 200 / 230
125 mm / 150 / 165
1E16, 3" / 80 / 80
100 mm / 50 / 50
125 mm / 30 / 33
Doping uniformity:
1σ across wafer, 5" / 0.75 / 0.5
Doping reproducibility:
1σ wafer to wafer / 0.5 / 0.5
Ion mass range / 1-150 / 1-130
Ion mass resolution M/∆M fwhh / 65c / 75
Wafer cooling / 140°C @ 600W / 100°C @ 1200W
Facilities requirements:
Power: 30 kVA
Air: 100 PSI, 4 cfm
N2: 5 PSI, 0.14 cfm
H2O: 40 PSI, 5 gpm
Exhaust: 1000 cfm
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80离子植入器和监控器是一种功能强大且可靠的设备，设计用于将离子植入底物。该装置能够植入广泛范围的离子，如硼、砷、磷、她的膦、硫等。它配有各种组件，提供对过程的精确控制，便于方便准确的操作。AXCELIS NV 10-80由晶片级、离子源和监控器三个主要部分组成。晶片级用于控制基板在植入过程中的位置，允许离子的精确和可重复的放置。离子源由磁控管阴极和电子枪组成，用于产生和加速离子向底物的方向。由固态探测器组成的监测器测量离子在植入过程中的通量。EATON NOVA NV 1080使用自动植入过程的计算机控制系统运行。它可以控制许多参数，例如离子类型、离子能量、离子打击速率、剂量水平和晶圆定位。这确保了精确的植入结果，并允许用户优化植入效率和准确性。它还配备了安全功能，包括互锁和限电。NV 1080设计用于广泛的应用，包括半导体制造、MEMS、LED、光电和生物医学处理。它与各种材料兼容，包括硅、铝、锌、移植物和钛等，植入角度广泛。EATON NOVA NV 10-80是一款可靠而强大的设备，提供出色的植入效果。其自动化的计算机控制系统确保了精确准确的植入，其功能范围允许用户优化植入效率和准确性。适用于多种应用和基材，使其成为一种用途广泛、高度适合离子植入的装置。
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