二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9412142 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9412142
晶圆大小: 6"
优质的: 1986
Ion implanter, 6"
(4) Sources
Ion beam energy: 20~80keV
Dose range: 5.0E12 - 5.0E15 atoms / cm²
Minimum beam current: 10µA
Wafer temperature: 100°C
X-Ray emission: ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr)
Charge control technology: Secondary Electron Flood (SEF)
Mechanical throughput:
Batch size: 10 wafers
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 sec
Dose control:
Bare Si Wafers: ≤3.0%
Photoresist wafers: ≤4.0%
Beam current for 80kev:
Energy(keV) / B11(mA) / AS75(mA) / P31(mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
Vacuum performance:
Subsystem / Pump / Base pressure (Torr)
Source / Diffusion pump / ≤5.0E-06
Beamline / Resolving housing / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06
Resolving housing / Process chamber / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80是一款先进的离子植入器和监控器，用于半导体行业配置集成电路和其他微电子元件。它能够精确调整材料的表面和内部微观结构，在工业过程中创造亚微米特征。此设备非常适合那些希望在制造过程中实现高度可靠、低成本和可靠的材料性能改进的用户。AXCELIS NV 10-80使用高压等离子体腔和可编程多线阵列运行。等离子体压力和流量使用内置阵列精确控制，所需离子种类的浓度由现场高斯陷阱设备监测。光束的精确控制输出能量分布在目标表面上，从而可以广泛控制植入过程。EATON NOVA NV 1080的高级监控系统使用户即使在处理错综复杂的组件时也能保持一致的植入质量。该单元的实时诊断功能提供了梁参数和相关缺陷的详细表征。这使得几乎可以立即发现故障不符合要求的检测和过程校正，并有针对性地植入特定材料。陆上重迭监测可用于同时监测同一平面中两个光束站点的重迭，这有助于操作员快速诊断和动态修改重迭。这台机器的设计考虑到了灵活性和人体工程学，具有一个标准的操作控制台，三个独立的手术台和一个模块化的定位机。它配备了基于PC的控制工具,能够自动执行各种过程监视和控制任务。其他特性包括精密锂簇离子源、可编程离子型、离子束电流和剂量范围以及易于使用的数据输入和分析资产。为了最大安全方便，EATON NOVA NV 10-80获得CE和UL安全标准认证。其构造和操作极其可靠安全，是精密加工的理想选择。确保在所有的应用程序中最大的工艺性能，机器提供可靠的结果，从它的高级控制模型，并产生一致的高质量植入。
还没有评论