二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200 #9266104 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9266104
晶圆大小: 6"
Implanter, 6" Application: Boron (B11+) ion implant Boron (BF2) ion implant Phosphorus (P+31) ion implant Energy: 5~200 KeV Dose: ~5E14 ions / cm² Beam current boron: <700 mA Phosphorus: <1,700 mA.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200是一种离子植入器和监测器,由一家专门设计和生产各种离子植入和掺杂设备的半导体元件公司Eaton Corporation开发制造。AXCELIS NV 6200是一种高度精密的装置,利用高能的离子束将掺杂原子,如移植入到构成晶体管、集成电路和其他类型微电子器件基础的材料层中。它提供连续输出的掺杂离子,以精确地在材料中创建所需的掺杂剖面。IonImplanter装置有一个控制系统,能够快速准确地监测和调整输出。它可以手动或自动模式运行,操作员设置能量、束电流、枪电压、腔室压力等所有参数。EATON NOVA NV 6200效率高,可以长时间不间断运行,长达24小时。机器测量数十种不同材料的植入率,包括硅、III-V化合物和多层基板。NV 6200配备了一系列安全系统,因此操作员无需担心可能的爆炸性或有毒物质。设备会遵守所有标准安全协议。EATON NOVA/AXCELIS NV 6200可以支持负载锁定、可变轴扫描仪、对称植入物和光束整形等多种选项,允许操作员自定义植入离子的角度、位置和图桉。监控系统可以测量所有参数并显示错误,同时支持各个组件之间的可追踪性,以确保安全满足所有参数。AXCELIS NV 6200是用于制造微电子器件的预光刻工艺中必不可少的工具。其精确的控制和可靠性,加上连续运行的能力,使得它成为生产线不可或缺的设备,需要可靠和可重现的结果。全自动监控系统可确保结果在整个过程中准确一致,从而实现更高的产量和更高的制造效率。
还没有评论