二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200AV-MD #293829792 待售
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ID: 293829792
晶圆大小: 6"
Medium current ion implanter, 6"
Cassete
Standard specific layout
Burned source
Source analyzer magnet
Scanning system-single wafer
Beam energy configuration:
Beam energy: 0 ~ 180 keV
Extraction mode: 0 ~ 20 keV
Acceleration mode: 20 ~ 180 keV
Vacuum pump system:
Diff pump: VHS6
Cryo pump (beam line and chamber): CTI-8
Wet pump: ETM40, ET18, RV8, EH-250
Cryo compressor: CTI9600
Gas / Model / MFC Type
PH3 / MFC / SDS
BF3 / MFC / Standard
Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200AV-MD是一款先进的离子植入器和显示器,旨在满足半导体行业的苛刻要求。这款尖端设备结合了精度、效率和灵活性,为制造半导体器件提供高质量的离子植入工艺。AXCELIS NV 6200AV-MD的核心是其离子源,产生一束可以精确控制并指向目标底物的离子束。该系统能够植入范围广泛的离子种类,包括硼、砷、磷等,从而能够以高精度和精确度创建掺杂剂型材。EATON NOVA NV 6200AV-MD的主要特点之一是其先进的光束线单元,其中包括精密光学元件和光束转向元件,可以在目标表面上精确放置离子束。这种控制水平对于实现半导体制造中所需的掺杂剖面和器件特性至关重要。机器配备了一系列植入能量选项,允许用户根据自己工艺的具体要求量身定制离子束。无论进行浅植入物还是深植入物,NV 6200AV-MD都提供了优化设备性能和产量所需的灵活性。除了离子植入能力外,EATON NOVA/AXCELIS NV 6200AV-MD还具有全面的监控系统,以确保过程的稳定性和可重复性。实时光束电流监测、能量控制、光束轮廓监测只是操作员可用的几种工具,以保持严密的过程控制,达到高质量的效果。该工具的设计考虑到了易用性,具有直观的用户界面,使操作员能够轻松编程植入配方、监控过程参数和分析数据。这种用户友好的方法简化了植入过程,降低了出错的风险,最终提高了半导体制造商的生产效率和上市时间。此外,AXCELIS NV 6200AV-MD的构建考虑了可靠性和正常运行时间,具有强大的结构和高级诊断功能,可最大程度地减少停机时间并最大限度地提高资产可用性。该型号的监控和诊断功能支持定期的维护和服务例程,确保设备以最高效率运行,且中断最小。总体而言,EATON NOVA NV 6200AV-MD为半导体行业的离子植入技术设定了新标准,为各种植入过程提供了无与伦比的性能、灵活性和可靠性。凭借其先进的功能和用户友好的设计,该系统准备在未来几年推动半导体制造的创新和卓越。
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