二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #293646149 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 293646149
晶圆大小: 6"
Ion implanter, 6" Transformer Injector: Bernase ion source with dual vaporizer Single stage extraction, 15-40 kV Dipole magnet, 90° Target postioning / scanning system: Parallel beam Electrostatic angle correction Programmable tilt, 0°-60° Endstation: Electrostatic silicon wafer chuck, 6" Flat / notch alignment with buffer cassette 3-Axis robotic pick and place system Vacuum system: LEYBOLD HERAEUS TMP 1000C LEYBOLD HERAEUS TMP 600C LEYBOLD HERAEUS TMP 151C CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr, 8" (3) Turbo controllers Roughing pump: LEYBOLD HERAEUS D40B Rotary vane LEYBOLD HERAEUS D40BCS EDWARDS iQDP40 Dry pump EDWARDS EH250 Blower Gas bottle enclosure: MFC VCR Fittings Does not include: Chillers, Helium compressor.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P是一种先进的离子植入器和监控设备,用于微电子制造业。该系统旨在创建非常精确的设备结构,这对于当今日益复杂的电子组件至关重要。AXCELIS NV-8200P离子植入器建立在一个可扩展的平台上,旨在满足更高的工艺吞吐量和更高的精度。它结合了光束线技术的最新技术,实现了低损耗蚀刻和均匀的植入物分布。简化的波束线设计还有助于减少停机时间并增加设备的使用寿命。EATON NOVA NV 8200 P具有植入角度和深度控制能力,在植入过程中提供更大的灵活性和准确性。可用于植入多种材料以及不同剂量水平。它还提供了一系列工艺参数,如束电流、离子能量、加速电压和方向,使其成为最灵活的植入器系统之一。EATON NOVA NV 8200P监视器使用其原位光束提取机制向用户提供实时反馈。机器测量植入物的沉积速率、离子范围、反射厚度、束电流和能量,使用户可以更好地控制该过程。它还可以检测到有助于防止植入过程中产品损坏的关键事件。AXCELIS NV 8200P是一种领先的离子植入器和监控工具,在微电子行业设备结构的创建过程中提供了无与伦比的准确性和可重复性。其先进的特性和强大的设计使它成为那些希望创造更高质量控制的高品质产品的人的理想选择。
还没有评论