二手 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E #9145264 待售

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E是一种用于半导体器件制造的离子植入器和高能监测器。GSD 200E是一种特殊类型的离子植入器和高能监测器，用于制造集成电路和微电子器件。这种特殊的装置是一种脉冲注入和高能监控器，具有监测的脉冲能力，能够精确可靠地注入许多不同类型的离子。GSD 200E设计为在整个晶片上提供高均匀性，允许对植入轮廓进行精确和可重复的控制。这使其成为先进半导体器件制造的理想产品。该设备配备了一套先进的控件，包括精密电流控制、柱选择、能量控制、过程定时和脉冲设置。这些设置允许对植入过程进行极大的灵活性和精确的控制。GSD 200E具有高性能的离子源和柱组合，用于优化离子植入。这种组合提供了将离子植入目标晶片时的高精度和精确度。此功能还可确保整个晶片上可重复且均匀的植入物轮廓。GSD 200E利用高速非接触式信号处理和性能反馈电路对植入过程进行精确控制。该电路减少了设备的响应时间，并保持了植入物轮廓的完整性。集成的高精度电流测量系统允许精确的电流调节。GSD 200E配备了实时离子排序和阻抗匹配模块，以优化离子植入过程的最终结果。此功能可确保只有所需类型和能级的离子才能植入晶片中。GSD 200E还包括一个用于准确监测植入过程的视觉单元。本机由高分辨率CCD相机、光源、光学滤镜和精密成像软件组成。该视觉工具是确保整个晶片上均匀植入物轮廓的关键部分。总体而言,AXCELIS NV-GSD-200E是一种强大可靠的离子植入器和高能监控器.该装置经过专门设计，为植入过程提供精确、可重复的控制，具有高性能的离子源和柱组合，以优化最终结果。其他功能，如视觉资产和离子分选模块，确保离子植入过程准确高效。