二手 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD A 160 #293610571 待售
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ID: 293610571
晶圆大小: 6"
Implanter, 6"
Bernas source type
SEIKO SEIKI STP-2000C Turbo pump
(2) EBARA 40X20 Dry pumps
Compressor: CTI 8200 / CTI 8510
NESLAB HX-150 Disk chiller
E-Shower gun
Rotary motor: Belt drive
Flat finder
Without coating disk
Secondly sun
Beamline
Post-Accel
Bias aperature
Cyro pump:
CTI Torr-08
CTI Torr-10
Gas type:
Gas 1: AR/SDS (HP, SDS, External)
Gas 2: ASH3/SDS (HP, SDS, External)
Gas 3: PH3/SDS (HP, SDS, External)
Gas 4: BF3/SDS (HP, SDS, External).
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD A 160是一款最先进的离子植入器和显示器,旨在满足半导体制造工艺的最先进的要求。它是业界最全面的植入器设备,与其他系统相比提供了众多优势。该系统提供高速的16位模拟离子电流测量,可产生高分辨率的图像,并允许精确的离子植入和优化的植入周长(OIP)。AXCELIS NV-GSD-A-160配备了一个可调高压平台和一个1.87米长的矩形基板支架,带有2个可伸缩的光束轴,允许精确的双轴植入。EATON NOVA NV GSD-A-160还提供了一整套诊断工具和测量仪器来评估工艺性能。NV GSD A 160具有高分辨率成像单元、高压平台和双轴植入机三大特点。该成像工具由100微米分辨率CCD芯片和先进的转角转向光学器件组成,可提供最详细的离子植入预览。它还提供了一种OIP功能,可用于精确控制剂量和能量分布。高压平台能够操作高达50千伏,在使用较大的离子束时提供了良好的控制程度。两轴注入资产允许一次注入四个离子轴,每组四个轴包括x、y、z和theta轴。它还带有全运动控制和过程监控,提供对植入过程的全面控制。最后,NV-GSD-A-160还提供了广泛的诊断和监视选项。它配备了一个监护模型来监控硬件和软件性能的各个方面,以及一个离子植入物诊断(IID)工具,可以用来确定离子束的配置和能级。该设备还提供了一套全面的测量仪器和工具来分析植入过程。总体而言,AXCELIS NV GSD A 160是进行先进半导体制造工艺的理想工具。拥有高分辨率成像系统、可调高压平台、双轴植入单元和综合诊断工具集,提供了复杂植入所需的所有功能。通过提供全面的控制方法,EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-160可以帮助您的制造业务获得显着优势。
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