二手 EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9290830 待售

EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE
ID: 9290830
晶圆大小: 12"
Implanter, 12".
EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE是一种离子植入器和显示器,开发用于半导体制造。是一款将低能和中能离子束与高分辨率离子束监测能力相结合的高性能、低成本设备。该系统设计用于在离子植入过程中执行多种功能,包括离子束均匀性测量、束监测、器件电流测量、温度控制和植入深度测量。AXCELIS范式XE离子植入器具有先进的光束控制单元,可实现精确的粒子放置和植入参数的精确控制。机器的最大光束电流超过1000 A/cm2,可调节扫描长度,以便在大面积上均匀植入。这使得该工具适合一系列的应用,包括超浅结和批量植入。EATON NOVA Paradigm XE的引擎由离子源、静电加速器、电离器、光束滤波器和光束监控资产组成。离子源产生各种能量的离子,例如,在能量高达500 KeV的情况下产生砷和磷。离子被引导通过静电加速器,在那里它们被加速,随后以精确大小和形状的光束从电离器发出。光束监测模型允许优化植入参数,以实现均匀的植入深度。设备配备了先进的数字监控系统(DMS),提供对所有植入晶片的实时、并发监控,以及对植入数据的实时分析。DMS提供精确的迭加,允许比较不同的植入步骤或批次的晶圆。该单元还提供了增强的设置可配置性,允许用户使用自定义光束扫描甚至多个光束来设置机器。范式XE是各类半导体器件植入的理想工具。该工具提供具有增强光束控制能力的高分辨率、低能量和中能量离子束。该资产能够在离子植入过程中执行多种功能,包括离子束均匀性测量、光束监测、器件电流测量、温度控制和植入深度测量。其数字监控模型提供了对所有植入晶片的实时、并发监控,以及对植入数据的透彻分析。
还没有评论