二手 NISSIN Exceed 2000 AH #293647879 待售

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ID: 293647879
Medium current ion implanter.
NISSIN Exceed 2000 AH是一种离子植入器和监测器,对掺杂剂的扩散和半导体制造的精确度提供了较好的控制。它旨在确保卓越的掺杂精度和工艺性能,同时帮助降低成本。NISSIN EXCEED 2000AH汇集了先进的离子植入技术和NISSIN Process Monitor集成,提供了最高水平的离子植入精度和可靠性。超过2000 AH具有高压、单源离子植入器和全面的监控包广泛的过程控制。它拥有改进的快门设计,允许容易植入和端点检测精度。集成的离子源能够准确地植入具有丰富离子束流度、均匀垂直轮廓和极低污染物的离子。EXCEPT 2000AH还包括一个改进的光束监测设备,这使得能够优越的过程控制和防止离子束误导。NISSIN Exceed 2000 AH具有改进的光束聚焦系统和超宽频率范围,以提供增强的过程控制。NISSIN EXCEED 2000AH还提供了对植入周期所有主要参数的增强控制和监控,具有定义植入点、监控浓度和快速检测端点的能力。此外,Except 2000 AH使用多个探测器,包括热电偶和同步加速器探测器,在掺杂控制方面达到最大精度。EXCEPT 2000AH包括NISSIN FPM(傅立叶处理器监控器),确保将掺杂剂准确植入半导体基板。FPM还具有广泛的工艺功能,允许以最小的努力获得可靠和可重复的植入特性,如均匀的垂直剖面、离子束通量和精确剂量剖面的合成。NISSIN Exceed 2000 AH提供了多种功能,以帮助确保最佳的过程控制、提高设备性能和降低成本。其中包括改进的表面覆盖范围、改进的监视和控制(M&C)、高级分析功能、远程诊断和审计以及改进的机器控制,以及晶圆基板温度和离子束电流的全自动控制。此外,NISSIN EXCEED 2000AH设计为易于与现有的流程控制系统集成,以提高流程性能。总体而言,Except 2000 AH提供了广泛的高级功能,以确保卓越的离子植入精度和可靠性。它为严格的过程控制提供了一个有效、经济高效的解决方桉,从而提高了产量并减少了半导体缺陷。EXCEED 2000AH具有自动化控制、提高精度和改进监控功能,是半导体制造的理想解决方桉。
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