二手 NISSIN NH-20SR #293776330 待售

NISSIN NH-20SR是为制造半导体器件而设计的高性能离子植入器和显示器。它能够以高采样率和极好的精度将硼、磷、砷等掺杂剂以及其他材料植入硅片中。NISSIN NH 20SR利用离子束轰击来驱动掺杂离子进入目标材料的晶格结构，从而能够精确控制材料中掺杂元素的数量和分布。NH-20SR提供多种植入，植入能量范围为1 keV至250 keV。这使得从低温到超浅结过程的掺杂层具有灵活性。它还提供了非常高精度的植入，其离子计数插值精度± 1%，离子能量分布精度± 3%。这允许精确入侵甚至进入非常紧密的几何形状。NH 20SR带有一个包括高速闭环扫描控制器的综合监控系统，在每个植入周期的最大持续时间内记录当前位置、扫描速率和总扫描面积。这使得检测错误和及时纠正错误变得更加容易。此外，该系统还提供可选的共抽取和倾梁功能，以提供更平稳和均匀的植入过程。NISSIN NH-20SR还具有集成的预加速度,使离子在进入目标材料之前处于所需的能量范围。这确保了掺杂成精确层的准确性和可重复性。NISSIN NH 20SR是市场上最高效可靠的离子植入器和监测器之一。易于使用和维护,并附有两年保修,以防止材料和工艺方面的缺陷。由于这些原因，它是半导体器件制造的一个很好的选择。