二手 NOVA T4500 #9233674 待售
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NOVA T4500是由Implant Sciences Inc开发的离子植入器和监控器。它是一种工业级的植入器和显示器，设计用于制造半导体器件。T4500能够产生能量在10到5500 keV之间、剂量率高达4 x 106 A/cm2的高能离子。设备总离子束电流范围在1至4 mA之间。NOVA T4500是一种连续流动的离子植入器，这意味着离子在一端被连续送入系统，然后从另一端提取。这样就不需要连续停止和启动设备,从而提高了吞吐量并降低了维护成本。本机具有两轴光束电流控制和两个独立的离子能量控制区域。这允许精确控制离子束轮廓，使工具能够产生高度均匀的离子植入。T4500配备了先进的离子光学和电子硬件，旨在在整个腔室的宽度上产生极高水平的离子束电流和能量均匀性。该资产还配备了高度先进的离子光学轮廓软件，该软件允许调整离子束轮廓，以确保精确控制光束的形状和大小。NOVA T4500还配备了一个全面的监控模型，可以实时跟踪和分析离子植入参数。监测设备包括束电流和能量、总剂量、剂量均匀性、泄漏电流和温度数据等特征。这允许对植入过程进行精确一致的控制，并确保所有植入都是一致的，质量最高。除了植入和监控能力外，T4500还配备了先进的过程控制和数据分析工具。这些工具允许实时分析植入过程，并提供植入过程的详细报告，可用于将过程参数的变化与植入物的变化相结合和关联。NOVA T4500是一种先进且高度可靠的离子植入器和显示器,专为在要求最苛刻的工业环境中使用而设计。它结合了先进的离子光学和电子硬件、监控能力以及过程控制和数据分析工具，使其成为工业离子植入过程的理想解决方桉。
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